Plasma-Oberflächen-Behandlungsanlage | Nano

Mit der Niederdruck Plasmaanlage Nano setzten Sie auf die bewährte Plasmatechnologie zur kontrollierten Feinstreinigung, Verbesserung der Adhäsion und Beschichtung auf Substratoberflächen. Plasmaanlagen von Diener electronic haben sich längst in den verschiedensten Industriebereichen durchgesetzt. Mit der Niederdruck Plasmaanlage Nano setzten Sie auf die moderne und zukunftssichere kalte Plasmatechnologie im Vakuum. Das Kammervolumen von 18 bis zu 24 Liter dieses Plasmasystems bietet genügend Raum um Labor und auch Serienfertigungen zu bedienen. Die Plasmabehandlung im Niederdruck-Plasma ist eine bewährte Technik zur kontrollierten Feinstreinigung, Verbesserung der Adhäsion (Aktivierung und Ätzung) und Beschichtung dünner Schichten auf Substratoberflächen. Plasma wird durch den Einsatz hochfrequenter Spannung in der Vakuumkammer erzeugt. Dabei wird das dort eingeleitete Prozessgas ionisiert. Anwendungsgebiete: VOC-freie Reinigung von organischen Rückständen auf Silikon, Kunststoff, Kupfer, Nickel, … Aktivierung vor dem Lackieren, Kleben, Vergießen, … Ätzen von PTFE, Fotolack, Oxidschichten, … Super-hydrophobe und -hydrophile Beschichtungen Hauptmerkmale: Tisch- oder Standgehäuse Vakuumkammern: Edelstahl, Aluminium, Borosilikat- oder Quarzglas Kammervolumen: 18 – 24 Liter Gaszufuhr: Mass Flow Controller (MFCs) Generator Frequenzen: 100 kHz (0 - 500 W), 80 kHz (0 - 1000 W), 13,56 MHz (0 - 300 W), 2,45 GHz (0 - 600 W) Steuerungen: Halbautomatik, Drehschalter, Basic PC-Steuerung (Windows CE), Full PC-Steuerung (Windows 10 IoT) Druckmessung: Pirani, Kapazitätsmanometer Die Nano Plasmasysteme kommen überwiegend in folgenden Bereichen zum Einsatz: Analytik, Archäologie, Automotive, Forschungs- und Entwicklungsabteilungen, Halbleitertechnik, Kleinserienfertigung, Kunststofftechnik, Medizintechnik, Mikrosystemtechnik, Sensorik, Sterilisieren, Textiltechnik Diener electronic bietet zukunftsweisende Lösungen in den Bereichen: - Niederdruck Plasmaanlagen zur Oberflächenbehandlung - Atmosphärendruck Plasmaanlagen zur Oberflächenbehandlung - Parylene-Beschichtungsanlagen - Aluminium Vakuumkammern aus einem einzigartig, flexiblem und patentiertem Kammersystem - Vakuum-Komplettsysteme und Anlagen für verschiedenste Einsatzbereiche - Test-Tinten zur Bestimmung der Oberflächenspannung - Plasmaindikatoren zum Nachweis einer erfolgreichen Plasmabehandlung - Plasmageneratoren Bestellmengen und Lieferkonditionen: 1 Abmessungen (Tischgerät): 560 mm x 600 - 860 mm x 600 mm (BxHxT) Abmessungen (Standgerät): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (BxHxT) Vakuumkammer Material: Edelstahl, Aluminium, Quarzglas (UHP), Borosilikatglas (HP) Vakuumkammer Abmessungen: ca. B 240 mm x H 240 mm x T 400 - 420 mm; Ø 267 mm, T 400 - 420 mm Vakuumkammer Volumen: Ca. 18 - 24 Liter Vakuumkammer Verschluss: Deckel, Tür mit Scharnier Gaszufuhr: Nadelventile oder Mass Flow Controller (MFCs) Generator: 100 kHz; 80 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Druckmessung: Pirani, Kapazitätsmanometer Elektroden: nach Kundenwunsch Steuerung: Halbautomatik, Drehschalter, Basic PC (Win. CE), Full PC (Win. 10 IoT) Spannungsversorgung: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vakuumpumpe: Saugleistung min. 16 m³/h